戦略目標
「ナノスケール熱動態の理解と制御技術による革新的材料・デバイス技術の開発」
研究総括

丸山 茂夫 (東京大学 大学院工学系研究科 特任研究員)
研究総括補佐

粟野 祐二 (慶應義塾大学 理工学部 特任教授(前研究総括 ~2018年1月))
概要
本研究領域は、熱に関する様々な課題の解決や熱エネルギー有効利用に向けて、熱の根源的な理解と高度に制御・利用するための基盤技術の創出を目指します。
具体的には、3つの大きな方針に基づいて研究を推進します。
1つ目の方針は、ナノスケールの熱の振る舞いを理解し、革新的な熱制御基盤技術の構築に取り組み、高効率な放熱・断熱・蓄熱・変換などを可能とする新材料の創製や、従来の特性や機能を飛躍的に向上させる新たなデバイスの創出を目指します。
2つ目の方針は、上記熱制御基盤技術の創出のために重要な理論、計測、シミュレーション、加工技術などの研究を推進し、ナノスケールにおける熱の物理現象の予測・検証を可能とし、新たな材料設計、デバイス設計の指針に繋がる技術の構築を目指します。
3つ目の方針は、この領域はナノスケールの熱の理解を基本として様々な熱の課題を対象とすることから、方針1、2に示すとおり、様々な階層と広範な分野に関わる学問・技術分野の融合を積極的に推進します。
この領域は、ナノスケールの熱制御基盤技術の創出により、熱を味方につけ、新たな段階の高効率利用法を生みだすことで、高度情報化社会の実現や環境負荷の少ないエレクトロニクスや交通輸送・住宅など社会インフラの実現、健康医療分野での新産業・新市場創成を実現し新たな段階の高度熱利用社会の実現を目指します。
領域アドバイザー
| 小原 春彦 |
産業技術総合研究所 エネルギー・環境領域 執行役員・領域長 |
| 喜々津 哲 |
(株)東芝 研究開発センター ストレージデバイス技術ラボラトリー シニアエキスパート |
| 徐 一斌 |
物質・材料研究機構 マテリアル基盤研究センター グループリーダー |
| 常行 真司 |
東京大学 大学院理学系研究科 教授 |
| 鶴田 隆治 |
西日本工業大学 副学長 |
| 花村 克悟 |
科学技術振興機構 研究開発戦略センター 上席フェロー |
| 平山 祥郎 |
東北大学 名誉教授 |
| 藤田 博之 |
東京都市大学 特別教授 |
| 森 孝雄 |
物質・材料研究機構 ナノアーキテクトニクス材料研究センター グループリーダー |
| 山内 崇史 |
(株)豊田中央研究所 エネルギーマネジメント研究領域 主任研究員 |
| 山根 常幸 |
東レテクノ(株) 代表取締役・社長 |
領域運営アドバイザー
| 馬場 寿夫 |
科学技術振興機構 研究開発戦略センター フェロー |
採択課題一覧
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