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- 平成24年度研究年報/
- 研究領域「次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究」平成24年度年報
![]() 「縦型ボディーチャネルMOSFETとその集積プロセスの開発」(PDF:414KB) |
![]() 「コヒーレントEUV光を用いた極微パタン構造計測技術の開発」(PDF:1,246KB) |
![]() 「Ge High-k CMOSに向けた固相界面の理解と制御技術の開発」(PDF:454KB) |
![]() 「数値シミュレーションによる新材料・新機能の開発」(PDF:481KB) |
![]() 「超高速ナノインプリントリソグラフィ技術のプロセス科学と制御技術の開発」(PDF:997KB) |
![]() 「計算科学によるグラファイト系材料の基礎物性解明とそのデバイス応用における設計指針の開発」(PDF:395KB) |
![]() 「高密度多層配線・三次元積層構造における局所的機械強度の計測手法の開発」(PDF:623KB) |
![]() 「電荷レス・スピン流の三次元注入技術を用いた超高速スピンデバイスの開発」(PDF:506KB) |
![]() 「3端子型原子移動不揮発性デバイス「アトムトランジスター」の開発」(PDF:341KB) |
![]() 「原子論から始まる統合シミュレータの開発」(PDF:861KB) |
![]() 「革新的プロセスによる金属/機能性酸化物複合デバイスの開発」(PDF:584KB) |