二次元機能性原子・分子薄膜の創製と利用に資する基盤技術の創出

１．研究領域の概要

　本研究領域は、次世代省エネルギー部素材・デバイスの構成要素としての二次元機能性原子・分子薄膜(原子・分子の二次元的構造、あるいはそれと等価な二次元的電子状態を表面・界面等に有する機能性を持った薄膜物質)に着目し、原子・分子薄膜の二次元的構造並びに有限薄膜系におけるエッジ(端)構造等の創製、新規な機能発現に関する現象の解明、新機能・新原理・新構造に基づくデバイスの創出等に資する研究開発を基礎基盤的アプローチから進めることにより、新たな価値の創造や新たな市場の創出等に繋げる道筋を示していくことを目的とします。具体的な研究分野としては、二次元機能性原子・分子薄膜の創製と利用に関する物性科学、合成化学、デバイス工学等を対象としつつ、互いの分野間が複合的に連携することで、革新的部素材・デバイスの実現に資する結晶成長技術、構造や物性の解明と制御のための計測・解析・加工プロセス技術、部素材・デバイス設計技術等の基盤を創出するとともに、基礎学理の構築に取り組みます。

２．中間評価の概要

２－１．評価の目的、方法、評価項目及び基準

戦略的創造研究推進事業・CRESTにおける中間評価の目的、方法、評価項目及び基準に沿って実施した。

２－２．評価対象研究代表者及び研究課題

2015年度採択研究課題

（１）佐藤信太郎（富士通（株）AI基盤事業本部　本部長付）

革新的デバイス創製のためのグラフェンナノリボンのテイラーメイド合成

（２）西原寛（東京大学大学院理学系研究科　教授）

有機・無機複合二次元物質、配位ナノシートの創製と電子・光・化学複合機能の創出

（３）町田友樹（東京大学生産技術研究所　教授）

ファンデルワールス超格子の作製と光機能素子の実現

（４）松本和彦（大阪大学産業科学研究所　特任教授）

糖鎖機能化グラフェンを用いた二次元生体モデルプラットフォームの創成

２－３．中間評価会の実施時期

2018年12月20日（木曜日）

２－４．評価者

研究総括

黒部篤	（株）東芝研究開発センター　首席技監

領域アドバイザー

榎敏明	東京工業大学　名誉教授
久保孝史	大阪大学大学院理学研究科　教授
小林俊之	ソニー（株）先端テクノロジー研究部門　リサーチャー
齋藤理一郎	東北大学大学院理学研究科　教授
内藤勝之	（株）東芝研究開発センタートランスデューサ技術ラボラトリ　シニアフェロー
永野広作	（株）カネカ　エグゼクティブ・フェロー
中村志保	東芝メモリ（株）新規メモリ開発部　フェロー
長谷川雅考	産業技術総合研究所ナノ材料研究部門　研究グループ長
三浦佳子	九州大学大学院工学研究院化学工学部門　教授
横山直樹	（株）富士通研究所　名誉フェロー