二次元機能性原子・分子薄膜の創製と利用に資する基盤技術の創出

1.研究領域の概要

 本研究領域は、次世代省エネルギー部素材・デバイスの構成要素としての二次元機能性原子・分子薄膜(原子・分子の二次元的構造、あるいはそれと等価な二次元的電子状態を表面・界面等に有する機能性を持った薄膜物質)に着目し、原子・分子薄膜の二次元的構造並びに有限薄膜系におけるエッジ(端)構造等の創製、新規な機能発現に関する現象の解明、新機能・新原理・新構造に基づくデバイスの創出等に資する研究開発を基礎基盤的アプローチから進めることにより、新たな価値の創造や新たな市場の創出等に繋げる道筋を示していくことを目的とします。具体的な研究分野としては、二次元機能性原子・分子薄膜の創製と利用に関する物性科学、合成化学、デバイス工学等を対象としつつ、互いの分野間が複合的に連携することで、革新的部素材・デバイスの実現に資する結晶成長技術、構造や物性の解明と制御のための計測・解析・加工プロセス技術、部素材・デバイス設計技術等の基盤を創出するとともに、基礎学理の構築に取り組みます。

2.中間評価の概要

2-1.評価の目的、方法、評価項目及び基準

戦略的創造研究推進事業・CRESTにおける中間評価の目的、方法、評価項目及び基準に沿って実施した。

2-2.評価対象研究代表者及び研究課題

平成26年度採択研究課題

(1)富永 淳二 (産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門 首席研究員)

カルコゲン化合物・超格子のトポロジカル相転移を利用した二次元マルチフェロイック機能デバイスの創製

(2)鳥海 明 (東京大学 大学院工学系研究科 教授)

二次元界面場により創出される新規材料物性の機能化

(3)平野 愛弓 (東北大学 材料科学高等研究所 主任研究者/電気通信研究所 教授)

超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成

2-3.中間評価会の実施時期

平成29年12月19日(火)

2-4.評価者

研究総括
黒部 篤 (株)東芝 研究開発センター 首席技監
領域アドバイザー
榎 敏明 東京工業大学 名誉教授
久保 孝史 大阪大学 大学院理学研究科 教授
小林 俊之 ソニー(株)先端テクノロジー研究部門 リサーチャー
齋藤 理一郎 東北大学 大学院理学研究科 教授
内藤 勝之 東芝リサーチ・コンサルティング(株) シニアフェロー
永野 広作 (株)カネカ エグゼクティブ・フェロー
中村 志保 東芝リサーチ・コンサルティング(株) フェロー
長谷川 雅考 産業技術総合研究所 ナノ材料研究部門 研究グループ長
三浦 佳子 九州大学 大学院工学研究院化学工学部門 教授
横山 直樹 (株)富士通研究所 名誉フェロー
外部評価者
該当なし

※所属および役職は評価時点のものです。

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