１．研究領域の概要

　本研究領域は、フォトリソグラフィ等のトップダウンプロセスと自己組織化に代表されるボトムアッププロセスの高度化と統合化を進めることによって、革新的な機能を発現する次世代ナノシステムの創製を目指すものです。
　具体的には、トップダウンプロセスによって作られた微細な電子回路、MEMS・NEMS等のナノ構造デバイスと、ボトムアッププロセスによって生成されたバイオ・有機材料、自己組織化材料等との融合を図ることにより新たな機能を発現させる研究、または機能を有するボトムアップナノ構造体を工学的に応用可能なシステムとして構築する研究を対象とし、従来にない機能、性能をもつセンサー、アクチュエータ、バイオチップ、電子・光デバイス、エネルギーデバイス等の基盤構築を目指します。さらに、これらを集積・最適化した次世代ナノシステムの構築まで念頭に置いて研究を推進します。

２．中間評価の概要

２－１．評価の目的、方法、評価項目及び基準

　戦略的創造研究推進事業・CRESTにおける中間評価の目的、方法、評価項目及び基準に沿って実施した。

２－２．評価対象研究代表者及び研究課題

平成２２年度採択研究課題

（１）野地　博行（東京大学　大学院工学研究科　教授）
　　　生体分子１分子デジタル計数デバイスの開発（143KB）

（２）樋口　昌芳（（独)物質・材料研究機構　グループリーダー）
　　　エレクトロクロミック型カラー電子ペーパー（132KB）

（３）山元　公寿（東京工業大学　資源化学研究所　教授）
　　　新金属ナノ粒子の創成を目指したメタロシステムの確立（127KB）

２－３．中間評価会の実施時期

　平成２５年１１月８日（金）

２－４．評価者