製品・サービスの概要

◆ 関連企業

ギガフォトン株式会社

◆ 発売時期

2023年3月以降（予定）

◆ 製品・サービスの概要

光学部品評価用コヒーレントEUV（極端紫外線）光源です。
EUV露光機では、高強度CO₂レーザー励起によって生成されたスズ(Sn)プラズマから発生するEUV（波長13.5nm)が用いられていますが、そのスズが集光ミラー等に付着するために、定期的な光学部品のクリーニングおよびミラー表面の面精度の再測定が必要となります。本技術は、そのミラー表面評価に必要なコヒーレントな光源を、テーブルトップサイズで実現します。

◆ 製品・サービスの特徴

ミラー表面の面精度の再測定を行う放射光設備を利用する際には、半年前の予約制であること、年間2週間程度の限定利用であることなどの制約があります。本技術はテーブルトップ型のコンパクトな光源により、その課題の解決を実現するものです。
リソグラフィ用EUV光源メーカーのみならず、リソグラフィ用EUVフォトマスク検査装置メーカーおよびその光源メーカーにとっても同様のメリットが生じます。
リソグラフィ用EUVフォトマスクの検査光源への応用も検討しています。

◆ ターゲットユーザー

リソグラフィ用EUV光源の開発者、メーカー、およびリソグラフィ用EUVフォトマスク検査装置メーカー、およびその光源メーカー

◆ 市場規模

半導体製造装置産業、事業所数：1,577事業所（2016年度）

◆ 関連サイト等

https://www.gigaphoton.com/ja/technology/euv-topics/what-is-euv-lithopgraphy
https://www.gigaphoton.com/ja/

COIプログラムの寄与

◆ 技術面での貢献

• ●短波長（EUV）光源開発
  ：小林洋平、谷峻太郎（東京大学）
  　緑川克美（理化学研究所）
  　五十嵐裕紀（ギガフォトン株式会社）

◆ その他の貢献等

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◆ 知財・論文・発表等の成果

• ●「EUV 光用回転楕円体ミラーの反射率計測装置」出願人：東京大学、ギガフォトン、出願日：2015年3月20日
• ●「EUV 光用回転楕円体ミラーの反射率計測装置」（米国出願15/672,961）出願人：東京大学、ギガフォトン、出願日：2017年8月9日（移行日）等

社会経済的な効果

◆ 人や社会への影響

コンパクトな光源が実現し、時間的・空間的制約が従来の放射光設備と比較して小さくなることで、EUVを活用した先端半導体産業の発展に貢献することが期待されます。

◆ 関連するSDGs・社会課題