科学技術振興機構(JST),株式会社ロータス・サーマル・ソリューション,山陽小野田市立山口東京理科大学

令和3年9月21日

科学技術振興機構(JST)
株式会社ロータス・サーマル・ソリューション
山陽小野田市立山口東京理科大学

ロータス金属による沸騰促進を利用した沸騰冷却技術を開発

~パワー半導体における熱集中問題の解消に貢献~

ポイント

JST(理事長 濵口 道成)は、研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP) 企業主導フェーズ NexTEP-Bタイプの開発課題「自発的冷却促進機構を有する高性能車載用冷却器」において、目指していた成果が得られたと評価しました。この開発課題は、山陽小野田市立山口東京理科大学の結城 和久 教授らの研究成果をもとに、平成29年12月から令和3年3月にかけて株式会社ロータス・サーマル・ソリューション(代表取締役社長 井手 拓哉、本社:大阪府大阪市、資本金1億840万円)に委託し、実用化開発を進めていたものです。

大型サーバーに用いられる高性能CPUや、電気式ハイブリッド車(HEV)向けインバーターに利用されるパワー半導体では、集積密度の向上や、大電力化が進むと同時に半導体のパッケージも小型化が進んでいます。そのため、半導体の面積当たりの消費電力が増加し、その結果、発熱密度が高くなり、素子の耐熱限界に近づいているのが現状です。

ロータス・サーマル・ソリューションは、この問題に対する解決策として、ロータス金属を用いた高効率な沸騰冷却器を開発しました。次世代パワー半導体として期待されているシリコンカーバイド(SiC)の発熱密度は300~500ワット毎平方センチメートル(W/cm)と言われ、SiCをデバイスに用いるためにはこれよりも大きな限界熱流束(Critical Heat Flux:CHF)を持った部材による冷却が必要となります。本開発では、ロータス金属を用いた沸騰促進技術を利用することで、従来の冷却器では200W/cm程度であったCHFを、530W/cm以上に向上させることに成功しました。

本開発により、高発熱密度に対応できる沸騰型冷却技術を確立したことから、車載用のSiC半導体によるインバーター回路や大型サーバー用高性能CPUを効率的に冷却するシステムの実現が期待されます。

研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)は大学、公的研究機関などで生まれた研究成果を、国民経済上重要な技術として実用化し、社会に還元することを目指す技術移転支援プログラムです。企業主導フェーズでは、大学などの研究シーズを用いて企業などが行う、開発リスクを伴う規模の大きい開発を支援し、実用化を後押しします。

※A-STEP企業主導フェーズ(NexTEP-Bタイプ/NexTEP-Aタイプ)は、令和2年度より「A-STEP企業主体(マッチングファンド型/返済型)」として公募しています。

URL:https://www.jst.go.jp/a-step/

<プレスリリース資料>

<お問い合わせ先>

(英文)“Contributing to solve the heat concentration problem in power semiconductors”

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