JST >> 知財活用支援事業 >> ライセンス >> “推し”技術情報 >> 多様な材料をナノシート化する方法

多様な材料をナノシート化する方法
~超膨潤ラメラ相を利用するナノシート化 『TRAP法』~

内田 幸明(大阪大学 基礎工学科)

発明のポイント

・従来困難だった、様々な材料のナノシート化を温和な条件で実現することができる技術。

  • ✔厚み数nmのシート状粒子を安定な分散液で得られる。
  • ✔様々な材料に適用可能(ex.金属、無機酸化物、MOF、ゼオライト、ポリマー)
  • ✔ナノシート化後も「凝集」「再結合」することなく安定に分散を維持できる。
  • ✔特殊な製造装置は不要。

発明の概要

1. 背景

『ナノシート』とは…

  • ・ 『厚み』(分子レベル)<< (幅)
  • ⇒ アスペクト比 100倍以上
  • ・ 比表面積 大
  • ⇒ 種々の機能向上期待
  • (従来のナノシートの製造方法)
  • ・トップダウン法 (ex.層状化合物の剥離)
  • ⇔ 適用可能な化合物が限定される。
  • ・ボトムアップ法 (ex.CVD法、水熱法)
  • ⇔ 専用装置が必要。
  • 数十nm以下のナノシートは製造困難。

2. 発明の概要

『超膨潤ラメラ相』を利用したナノシート合成法(TRAP 法)

  • (※Two-dimensional Reactor in Amphiphilic Phases)
  • 超膨潤ラメラ相
    ラメラ相の二分子膜と、他の二分子膜との間が溶媒層で膨潤された状態
  • 紫矢印:『厚み 数nm~10nm』の二分子膜
  • 青矢印:溶媒層=「二分子膜間の間隔」100nm以上(数百nm~)

超膨潤ラメラ相を形成する二分子膜(内)を反応場として、目的物のナノシートを合成する。
ナノシートの「厚み」「広い適用範囲」の両立を実現

3. 適用例

・カーボン
(厚み)= 6 nm
・MOF
(厚み)= 2 nm
・金
(厚み)= 6 nm
・アルミノシリケート
(厚み)= 1.5 nm
・ゼオライト
CHA型
2.13 × 528 nm
(厚み)= 2 nm
PHI型
2.20 × 416 nm
(厚み)= 2 nm
MFI型
1.49 × 580 nm
(厚み)= 1.5 nm
SOD型
2.13 × 219 nm
(厚み)= 2 nm
・ポリマー(PEDOT)
(厚み)= 2 nm
  • ナノシートの形状制御
  • 「共界面活性剤」
  • 「攪拌速度」
  • 「流速」
  • 等の因子で調整可能

想定される用途

従来法でナノシート化が困難だった各種材料の性能向上

  • ・比表面積増大
  • ・凝集防止
  • ・安定分散液製造
  • ●触媒
  • ●多孔質材料
  • ●分離・吸着材
  • コーティング材料
  • 表面処理材料
  • 塗料

[各種材料の高機能化]

ライセンス可能な特許

発明の名称:金属有機構造体ナノシートおよびその製造方法
国際公開番号:WO2018/016650
登録番号:特許第6978783号(1.58MB)米国11389781(2.43MB)

リンク

●この技術のPDF版はこちら(697KB)

●“推し”技術情報一覧へ戻る

●JST保有特許リストはこちら