独立行政法人科学技術振興機構
６．評価対象課題の個別評価
９０．１Å以下の空間分解能をもつ絶縁体表面原子構造解析装置の開発
| 企業名 | ： | 株式会社パスカル |
| 研究者（研究機関名） | ： | 梅澤 憲司（大阪府立大学大学院理学系研究科 准教授） |
１）独創モデル化の概要及び成果
半導体や金属薄膜材料の研究開発において表面近傍の元素分析と構造解析が同時に行える分析手段として低速イオン散乱分光法が有力な手段として用いられてきた。しかし、絶縁体に関しては帯電効果のため信頼性のある分析が不可能であり、殆ど未開拓領域となっている。
本モデル化では、従来の低速イオン散乱分光法に代わり、低速の中性原子を用いた原子散乱分光分析装置を開発した。モデル化装置では数keVに加速されたイオンビームを中性化し原子ビーム（He,Ne,Ar）として標的試料表面に入射させ、表面で散乱されて跳ね返ってくる原子のエネルギー分布(飛行時間計測法による)およびその角度分布を計測した。この結果、絶縁体試料を標的とした場合でも表面の帯電による電場の影響を全く受けず正しい計測が可能となった。
本装置では電気的に中性な原子ビームの強度を確保しているため、絶縁体試料での計測に威力を発揮するだけでなく、強電場や強磁場下に置かれた金属、半導体、絶縁体試料表面あるいはこれらの薄膜成長過程での "その場計測" も可能となる。この特徴により特殊条件下での薄膜成長など今後の新機能材料の開発等に威力が発揮できる。
２）事後評価
（ア）モデル化目標の達成度
モデル化目標は設定数値もクリアし、ほぼ達成されている。
（イ）知的財産権等の発生
これまでの研究においては特許出願はなされていないが、今後の商品化段階においては幾つかの特許出願が期待できる。
（ウ）企業化開発の可能性
製品化に必要なデータは得られており、企業化の見通しは得られている。自社製品に組み合わせることができる強みは大きい。
（エ）新産業及び新事業創出の期待度
半導体を初めとする材料開発は今後ますます重要さを増していくものと予想され、その分野において大きな武器になることが期待できる。特に、基礎的な表面科学の研究装置として我国の科学研究の推進に貢献することは確実である。将来は製造装置用の高度な成膜用モニタとしての市場創成も期待できる。
３）評価のまとめ
絶縁材料の表面構造解析ができる実用的な装置を計画通りに開発し、目標を達成したことは十分に評価出来る。今後は自社の分子線エピタキシー装置等に適用し、顧客のニーズに呼応する更なる性能アップと低価格化を図り、有力な製品として完成して頂きたい。