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| Shiho Nakamura, Storage Materials & Devices Laboratory, Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, Chief Research Scientist |
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株式会社東芝 研究開発センター 記憶材料・デバイスラボラトリー 研究主幹 |
磁性人工格子、磁性表面、磁化ダイナミクス、ナノスピンエレクトロニクス。強磁性体表面の磁化状態をナノレベルで観察するスピン走査トンネル顕微鏡技術を開発。 |
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早稲田大学大学院博士過程終了。
工学博士（早稲田大学）。
（株）東芝に入社し、総合研究所（現研究開発センター）研究員として磁性薄膜材料とスピンエレクトロニクス開発に従事、現在に至る。 |
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日本物理学会、応用物理学会、日本応用磁気学会、
学振ナノプローブテクノロジー第167委員会オブザーバー、
技術研究組合超先端電子技術開発機構 優秀研究員賞、
武田計測先端知財団 武田研究奨励賞優秀研究賞受賞。 |
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