機構報第330号
開発を終了した課題の評価
| 課題名 | 「マルチポリゴン方式レーザー直接描画システム」 | ||||||
| 所有者 | 新田勇、菅野明宏、小俣公夫、井口敏、科学技術振興機構 | ||||||
| 研究者 | 新潟大学工学部機械システム工学科教授 新田 勇 | ||||||
| 委託企業 | 株式会社オプセル | ||||||
| 開発費 | 99,310,040円 | ||||||
| 開発期間 | 平成15年3月26日～平成18年3月31日 | ||||||
| 評価 |
本新技術の開発結果は下記のとおりであり、成功と判断するのが適当である。 記
本新技術は、プリント基板や液晶パネル等の製造において、複数のポリゴン走査ユニットを用いて、短時間で、大面積のパターン露光を実施できるレーザー直接描画装置の開発に関するものである。本新技術では、描画パターンを区分化して、複数のポリゴン走査ユニットに分担させ、これらを同時に制御し、分割パターンを精度よく接続して大面積露光を行う方式を提案し、この目的のために、広い投影面にわたって微小ビームの走査が行えるレンズ系と、温度変化に対してレンズ系の偏心防止が行える装置を導入し、安定した高精細描画装置を実現した。実証試験において、３台のポリゴン走査ユニットを搭載したレーザー直接描画装置を用いて評価を行った結果、良好なパターン接続精度を持つ描画機能を確認した。 本新技術は、プリント基板加工をはじめ、各種用途において、少量多品種の高精細パターン加工を、安価で効率よく行うための有力な手段となることが期待される。 | ||||||
| 評価者 |
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| 評価日 | 平成18年6月30日 | ||||||