横浜国立大学,科学技術振興機構(JST)

2026(令和8)年7月27日

横浜国立大学
科学技術振興機構(JST)

超低摩擦材料の摩耗の仕組みを解明

~摩擦場の力学情報・空間情報・分子情報を同時に観測する新手法で明らかに~

ポイント

横浜国立大学 大学院環境情報研究院の大久保 光 准教授らの研究グループは、摩擦場の力学情報・空間情報・分子情報の同時計測を可能とする独自の装置を開発し、超低摩擦材料である「濃厚ポリマーブラシ」の摩耗の起源を分子レベルで解明しました。本研究成果により、摩耗を伴わず持続的な超低摩擦性の発現を可能とする摩擦材料の実現が示唆されており、機械システムのより一層の省エネルギー化に向けた新たな摩擦制御技術の創製が期待されます。

本研究成果は、「ACS Applied Materials & Interfaces」に2026年7月27日(日本時間)に掲載されました。

本研究は、科学技術振興機構(JST) 戦略的創造研究推進事業 ACT-X「SRT材料の潤滑機構の階層的な理解と新機能開拓」(課題番号:JPMJAX23D4、研究代表者:大久保 光)の支援を受けて実施されました。また、同 戦略的創造研究推進事業 ERATO「酒井複素ゲルプロジェクト」(課題番号:JPMJER2401、研究総括:酒井 崇匡)、戦略的創造研究推進事業 CREST「超低摩擦ポリマーブラシの摩耗現象の階層的理解と制御」(課題番号:JPMJCR2193、研究代表者:辻井 敬亘)、創発的研究支援事業「生体的階層構造と機能に基づく革新的ソフトマター摺動機械要素の創発」(課題番号:JPMJFR243Y、研究代表者:大久保 光)の各事業からも一部支援を受けています。

<プレスリリース資料>

<論文タイトル>

“Multimodal Operando Characterization of Layering and Wear at Concentrated Polymer Brush Interfaces”
DOI:10.1021/acsami.6c11287

<お問い合わせ>

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