東京科学大学,神奈川県立産業技術総合研究所,総合科学研究機構,愛媛大学,高輝度光科学研究センター,熊本大学,京都大学,量子科学技術研究開発機構,生産開発科学研究所,科学技術振興機構(JST)

令和7年3月5日

東京科学大学
神奈川県立産業技術総合研究所
総合科学研究機構
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高輝度光科学研究センター
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量子科学技術研究開発機構
生産開発科学研究所
科学技術振興機構(JST)

ニッケル酸ビスマスの圧力誘起電荷非晶質化を発見

~熱膨張問題を解決する新たな負熱膨張材料の開発に期待~

ポイント

東京科学大学(Science Tokyo) 総合研究院の西久保 匠 特定助教(神奈川県立産業技術総合研究所 常勤研究員)、東 正樹 教授、国立台湾大学の陳 威廷 博士、英国エジンバラ大学のポール・アットフィールド 教授らの研究グループは、Bi3+0.5Bi5+0.5Ni2+という電荷分布を持つペロブスカイト型酸化物ニッケル酸ビスマス(BiNiO)を低温で加圧すると、電荷非晶質(電荷グラス。Biイオンの並び方に秩序がなくなり、ランダムに存在する)状態になる、特異な温度圧力変化を示すことを明らかにしました。

ペロブスカイト酸化物は強誘電性や圧電性などの多彩な機能を持つことが注目されています。その一種であるBiNiOは、高温・高圧環境で相転移し、負熱膨張をすることが知られており、低温・高圧環境でも新たな電子相が出現すると予想されていました。

本研究では、BiNiOを250ケルビン以下の低温で圧縮すると、Bi3+とBi5+の秩序配列が消失して電荷グラス状態になり、さらにこの電荷グラス相を昇温すると負熱膨張することが明らかになりました。BiNiOのNiを一部Feで置換したBiNi1-xFeは負熱膨張材料として活用されています。今回の電荷グラス相でも同じような負熱膨張が確認されたことから、新しい負熱膨張材料の開発が期待されます。

本研究成果は、2025年3月5日(現地時間)付の「Nature Communications」に掲載されます。

本研究の一部は、JST-CREST「非晶質前駆体を用いた高機能性ペロブスカイト関連化合物の開発」(研究代表者:東 正樹 東京科学大学 教授、課題番号JPMJCR22O1)、神奈川県立産業技術総合研究所 実用化実証事業「次世代半導体用エコマテリアルグループ」(グループリーダー:東 正樹 東京科学大学 教授)、日本学術振興会 科学研究費助成事業(課題番号17105002、18350097、22244044、JP18H05208、JP19H05625、JP22KK0075、JP24H00374)、東京科学大学 総合研究院 フロンティア材料研究所 共同利用研究の支援のもと実施されました。

<プレスリリース資料>

<論文タイトル>

“Pressure-Induced Charge Amorphisation in BiNiO3
DOI:10.1038/s41467-025-57247-1

<お問い合わせ先>

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