東海国立大学機構 名古屋大学 大学院工学研究科の中村 篤智 准教授、松永 克志 教授らの研究グループは、独ダルムシュタット工科大学のＸｕｆｅｉ Ｆａｎｇ （シューフェイ・ファン） 博士および東京大学 大学院工学系研究科 総合研究機構の幾原 雄一 教授、栃木 栄太 助教との共同研究で、半導体に外部から光（フォトン）と力（フォース）を同時に入射する手法を新たに開発し、結晶のシワ（転位）の運動が光照射で変化する現象をナノスケールで計測することに初めて成功しました。
高度に情報化された現代社会において、半導体材料の重要性は非常に高いものとなっています。半導体には壊れないこと、つまり、高い信頼性や耐久性が求められます。半導体の構造的な強さが光環境に強く依存することが発見されて以来、各種半導体の本当の強さを知るための手法開発が期待されてきました。本研究では、完全にコントロールされた光（フォトン）と力（フォース）をナノスケールで同時に半導体に入射し、半導体の強さに及ぼす光の効果をナノスケールで計測する手法の開発に成功しました。この研究成果により、多種多様な先進半導体の構造的な強さを正しく評価できるようになります。
本研究成果は、２０２１年２月１７日付（日本時間２月１８日）米国科学雑誌「Ｎａｎｏ Ｌｅｔｔｅｒｓ」オンライン版に掲載されます。
本研究は、主に、２０１９年度から始まった科学技術振興機構（ＪＳＴ）さきがけ研究「力学機能のナノエンジニアリング」研究領域（ＪＰＭＪＰＲ１９９Ａ）の支援で行われたものです。また、研究の一部では、新学術領域「機能コア科学（１９Ｈ０５７８６）」ならびに特別推進研究（１７Ｈ０６０９４）をはじめとする日本学術振興会 科学研究費助成事業の支援を受けました。
＜プレスリリース資料＞
- 本文 ＰＤＦ（６５９ＫＢ）
＜論文タイトル＞
- “Photoindentation: A New Route to Understanding Dislocation Behavior in Light”
- ＤＯＩ：10.1021/acs.nanolett.0c04337
＜お問い合わせ先＞
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中村 篤智（ナカムラ アツトモ）
東海国立大学機構 名古屋大学 大学院工学研究科 准教授
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＜ＪＳＴ事業に関すること＞
嶋林 ゆう子（シマバヤシ ユウコ）
科学技術振興機構 戦略研究推進部 グリーンイノベーショングループ
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