研究領域「ナノ科学を基盤とした革新的製造技術の創成」中間評価(課題評価)結果

1.研究領域の概要

 本研究領域では、ナノデバイスやナノ材料を高効率に製造する技術群の基盤構築、およびこれらの応用による具体的応用実施例の提示、ならびに製造プロセスに係る現象のナノスケール科学による革新を目指した研究を推進し、これらを「ナノ製造技術」の基盤として構築することを通して将来のナノテクノロジーの本格的実用化を目指すものです。
 具体的には、様々なナノ材料やそれらの複合体により格段に優れた機能を発現する実用化可能な新材料や、これらの材料およびナノ構造に由来して発揮される高性能デバイスの創製、及びその高効率生産技術、ナノレベルでの加工技術、ナノ自己組織化を活用した製造技術、製造に使用できるナノ計測・検査技術等を対象とします。更に製造技術を革新的に変えるナノ科学の研究も対象としますが、研究終了時点で実用化に関しそのシナリオが確実に描けていることが期待されます。

2.中間評価の概要

2−1.評価の目的、方法、評価項目及び基準

 戦略的創造研究推進事業・CRESTにおける中間評価の目的、方法、評価項目及び基準に沿って実施した。

2−2.評価対象研究代表者及び研究課題

平成20年度採択研究課題
(1) 一木 隆範 (東京大学大学院工学系研究科 准教授)
ナノバイオチップ技術を利用する高速酵素分子進化システム創製 ナノバイオチップ技術を利用する高速酵素分子進化システム創製PDF(138KB)
(2) 佐々木 高義 ((独)物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点 フェロー)
無機ナノシートを用いた次世代エレクトロニクス用ナノ材料/製造プロセスの開発 無機ナノシートを用いた次世代エレクトロニクス用ナノ材料/製造プロセスの開発PDF(129KB)
(3) 下村 政嗣 (東北大学原子分子材料科学高等研究機構 教授)
階層的に構造化されたバイオミメティック・ナノ表面創製技術の開発 階層的に構造化されたバイオミメティック・ナノ表面創製技術の開発PDF(143KB)
(4) 真島 豊 (東京工業大学応用セラミックス研究所 教授)
高精度にサイズ制御した単電子デバイスの開発 高精度にサイズ制御した単電子デバイスの開発(123KB)

2−3.中間評価会の実施時期

 平成23年9月15日(木)

2−4.評価者

研究総括
堀池 靖浩 (独)物質・材料研究機構 名誉フェロー
領域アドバイザー
安宅 龍明 オリンパス(株)未来創造研究所 コーディネーター
江刺 正喜 東北大学原子分子材料科学高等研究機構 教授
榎 敏明 東京工業大学大学院理工学研究科 教授
中濱 精一 東京工業大学 名誉教授
奈良 安雄 富士通セミコンダクター(株) デバイス開発統括部/第一プロセス開発部 部長
前田 瑞夫 (独)理化学研究所基幹研究所 主任研究員
横山 直樹 (株)富士通研究所 フェロー
吉原 一紘 オミクロンナノテクノロジージャパン(株) 最高顧問
外部評価者
該当者なし