平成20年5月 独立行政法人科学技術振興機構 産学連携事業本部 地域事業推進部 |
(参考1)地域別事業概要 | ||||||||||||||||||||||||||||
(iv) 高知県
事業の目標・概要
高知県においては、平成9年度に「高知県科学技術振興指針」を策定し、電子・光や新材料技術の開発等による先端技術産業の創出を、県が取り組むべき重点課題として位置付けている。同時に、科学技術研究の拠点づくりと、産学官連携による産業振興を目的として、公設民営方式による高知工科大学を設立した。 1.ZnO-TFT 技術の開発
ZnO(酸化亜鉛)などを用いて、従来のa-Si-TFTや、低温多結晶Si-TFTを凌駕する高性能TFTを作るための基盤技術を開発する。 2.TFT の分析評価及びSiGe-TFT 技術の開発
ZnO-TFTやZnO透明導電膜の主構造材料であるZnO薄膜の結晶構造・電気特性の評価ならびに評価・解析技術の開発を行い、ZnO膜の高品質化に寄与する。 3.次世代透明導電膜技術の開発
ZnOを用いたTFTを液晶ディスプレイに適用する際、TFTのソース・ドレイン領域及び画素電極に必要とされる技術を開発する。さらに、従来の透明導電膜を凌駕する超低抵抗化技術を開発する。 4.紫外LED 技術の開発
新材料の伝導制御技術を開発し、pn接合を形成する。さらに、ダブルへテロ接合技術によるLED技術を開発する。 5.電界電子放出型光源技術の開発
炭素ナノ構造薄膜を合成し、電界電子放出特性の向上を図る。その薄膜を用いて、高効率かつ色が自由に設計できる面光源の原型開発を行う。 事業実施期間中の研究項目と実施体制
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