 事業進捗状況及び今後の見通し
本研究開発課題に関わる技術分野のポテンシャルが必ずしも高いとは言えない高知県において、クリーンルームを整備する等高知工科大学を中心に研究推進のための基盤構築を進めている点は評価できる。
しかし、本研究開発課題については他の研究機関で既に多くの研究開発が行われており、またこの産業分野では激しい競争がなされている状況を考えると、性能向上を目指した現在の研究開発ではなく、製品ターゲットを絞った目標設定とリソースの集中による事業推進が必要と思われる。また、カシオ計算機（株）を中心とした事業実施体制となっているものの、新商品の開発を目指すためには他の企業の関わりや人員が不足している。
競争の激しいこの分野において優位性のある事業を展開する基盤を構築していくためには、今後、県内外の企業の参画や人材の確保を積極的に推進することが必要であり、それを支援する県の主体的な関与が求められる。
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 研究開発進捗状況及び今後の見通し
（総論）
世界初のＺｎＯ-ＴＦＴによるＬＣＤ駆動表示は評価できるものの、全体的には基本計画に対して研究開発の進捗は遅れており、研究成果としての論文や特許の質・数とも十分とは言えない。また、一人のサブテーマリーダが他のサブテーマリーダを兼ねている点や、コア研究室の導入設備数に対する研究員数を考えると、研究スタッフが不足していると思われ、人員の増強が必要である。
フェーズI で、６テーマのうち３テーマに重点化して研究開発を進めたことは妥当であるが、競争の激しいこの分野においては、今後とも、外部の技術進展や動向を確認しつつ優位性や特異性を明確にし、開発目標の焦点を絞って遅滞なく進めていくことが必要である。
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（各論）
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コメント |
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１．新材料による高性能ＴＦＴ技術の開発
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・ テーマ１−１「ZnO-TFT技術の開発」は着実に推進されている。
・ テーマ１−２「SiGe-TFT技術の開発」は基本計画に対して遅れており、当初の目標達成は困難と思われる。継続する場合にはその意味と本プロジェクトでの位置付けを明確にする必要がある。
・ 応用製品のスペックを定量的に表現し、目的を明確化して必要な技術開発に注力することが望まれる。
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２．次世代透明導電膜技術の開発
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・ 研究は着実に推進され成果は上がっていると思われるが、基本計画に対応した研究進捗をはっきり示すべきである。
・ 応用先を明確にし、膜に要求される物性値の目標及びいつまでにどのような膜を開発するのかを決めた上で開発を進める必要がある。
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３．保護膜低温形成技術の開発
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・ 重点化テーマから外れているため具体的で詳細な報告がされていない。重点化から外れた理由を示すとともに、テーマ再編を含め存続を検討する必要がある。
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４．白色光源技術の開発
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・ テーマ４−１「紫外ＬＥＤ技術の開発」における本グループの発案によるCo-doping法を応用したｐ型ＺｎＯの開発は、オリジナリティの明確な研究であり具体的な形での成果が望まれるので、今後実デバイスの作製に向けたマイルストーンを示す必要がある。ただし、事業化のためには、資本力のある企業が中心となる必要がある。
・ テーマ４−２「冷陰極光源技術の開発」でベンチャー企業を立ち上げ事業展開を進めていることは評価できる。
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 成果移転に向けた活動状況及び今後の見通し
開発目標が技術指向となっており、産業として定着させる具体的な商品ターゲットが明確になっていない。今後、カシオ計算機株式会社・高知カシオ株式会社等の企業主導で実用化へ向けたターゲットを絞り、目標の仕様や性能を明確にした上で時間スケールを含めた実用化計画を立て、事業を推進する必要がある。
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 都道府県等の支援状況及び今後の見通し
クリーンルームの設置や高知工科大学への支援等、県の支援は評価できる。
しかし、構築しようとしている県の産業基盤となる地域ＣＯＥについてのビジョンが明確でないので、本事業を契機としてどのように地域ＣＯＥを構築するのか県の明確なビジョンの提示が求められる。また、地元企業に対するクリーンルームの積極的な利用の呼びかけや高知工科大学の学生の人材育成等、フェーズIIIも視野に入れた県の戦略的な支援が必要である。 |