出展概要

触れるモスアイを目指して、東京理科大学様との共同開発により、硬度の高い防汚機能を有したナノインプリント用UV硬化型エポキシ樹脂組成物の開発に成功しました。この組成物をナノインプリント手法にて転写することで、反射防止構造体（モスアイ構造）に防汚機能を付与した、スマートフォンやタブレット等のディスプレイ用保護フィルムを作製することができます。更に、鉛筆硬度で8H以上を有するため、硬度が必要とするナノインプリント転写材料やレプリカモールド、防汚機能を有するハードコーティング剤等にも応用可能です。

JST支援プログラム名称・期間

A-STEP（研究成果最適展開支援プログラム）
ハイリスク挑戦タイプ
開発期間：平成25年度～平成28年度
課題名：反射防止構造体(モスアイ構造)に防汚機能を付与したタッチパネル用フィルム及びフィルム材料の開発

共同研究者情報

• 東京理科大学　基礎工学部　電子応用工学科　教授　谷口 淳