出展概要

京都大学ナノテクノロジーハブ拠点の設備を活用し、加工性に優れるSiのD-RIEを用いることでＸ線イメージング素子作製に要請される微細高アスペクト構造の開発を行いました。高アスペクト構造領域をメンブレン化することでＸ線イメージング位相格子を作製し、また当該構造にAuメッキ処理を加えることで吸収格子の作製を実現しています。
Siメンブレン構造を用いたアト秒現象観察用単結晶薄膜構造資料についても紹介します。

JST支援プログラム名称・期間

ナノテクノロジープラットフォーム

共同研究者情報

• 京都大学