科学技術振興事業団報 第36号
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平成9年11月20日
埼玉県川口市本町 4-1-8
科学技術振興事業団
電話(048)226-5606(総務部広報担当)
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「金属磁性材料用反応性イオンエッチング技術」の委託開発企業の募集について
科学技術振興事業団（理事長 中村守孝）は、科学技術庁金属材料技術研究所第4グループ第3サブグループリーダー
中谷 功氏の研究成果である新技術「金属磁性材料用反応性イオンエッチング技術」の開発を予定しています。開発を受託する企業等を下記の要領にて募集します。
記
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新技術の概要 |
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近年、高密度記録用の磁気記録媒体の高密度化、及び磁気ヘッド、移動体通信機器用の
コイルやトランス等のマイクロ化に伴って、金属磁性材料のより精度の良い微細加工技術の必要性が高まってきている。現状では、磁性体素子の製造には、光リソグラフィーとウェットエッチングの組合せやアルゴンイオンミリング法が用いられているが、微細化や生産性等に限界があった。
本新技術は、一酸化炭素とアンモニア混合ガスのプラズマを用い、金属磁性材料の表面
に遷移金属カルボニル化合物を生成させてエッチングする反応性イオンエッチング技術に関するものである。本新技術は、金属磁性材料のみを選択的にエッチングできる、エッチング速さの向上が図れる、異方的形状の加工が可能である等の特徴を有するので、磁気ヘッドや磁気集積回路等における金属磁性材料の微細加工技術としての利用が期待される。
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募集期間 |
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平成9年11月21日(金)〜平成10年1月12日(月) |
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説明会 |
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日時 平成9年12月1日(月) 午後1時30分〜午後3時30分 |
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場所 科学技術振興事業団 大会議室
（埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル12階）
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| 4. |
説明会出席希望や募集要項等、募集に関する問合せ先 |
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科学技術振興事業団プロジェクト部第二課 小泉
電話 03(5214)-8995(直)
ファクシミリ 03(5214)-8999
注）平成9年11月21日付官報、インターネットに関連情報を掲載しています。
インターネットホームページ https://www.jst.go.jp/
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・「金属磁性材料用反応性イオンエッチング技術」(背景・内容・効果)
※詳細情報についてご希望の方は、当事業団総務部広報担当までお申し込みください。
TEL:048-226-5606 FAX:048-226-5646
This page updated on March 26, 1999
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