| 1. | 研究主題 |
| フォトンクラフト（Photon Craft) | |
| 2. | 研究実施機関 |
| 日本側： 科学技術振興事業団 中国側： 中国科学院上海光学精密機械研究所 | |
| 3. | 代表研究者 |
| 日本側： 平尾 一之（京都大学大学院工学研究科 教授） 中国側： 胡 企銓（中国科学院上海光学精密機械研究所 副所長） | |
| 4. | 協同研究体制 |
| （1）機能素子合成グループ、（2）機能解明グループの2グループを設け、日本、中国合わせて10〜15名の研究員の参加を得る。日中双方の場所で研究を進めながら、共同研究の中心拠点を中国に置く。 | |
| 5. | 研究期間 |
| 2000年2月22日〜2005年2月21日（5年間） | |
| 6. | 研究の規模 |
| 日本側は5年間で約7億円の負担を予定し、中国側にも相応の貢献を期待する。 | |
| 7. | 成果の取り扱い |
| 公表原則 知的所有権は両機関の均等所有原則 |
This page updated on March 15, 2000
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