ナノ製造技術の探索と展開
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長谷川 裕之 原 真二郎 樋口 昌芳 藤田 淳一 村上 達也
基本論理素子に向けたナノスピンバルブ構造の選択形成
原 真二郎
写真
1969年8月、静岡県生まれ
所属
 北海道大学 量子集積エレクトロニクス研究センター 准教授
研究専門分野
 半導体ナノエレクトロニクス、エピタキシャル結晶成長技術
URL
 http://hydrogen.rciqe.hokudai.ac.jp/~hara/shara.htm
学歴
1993年3月北海道大学工学部電気工学科卒業
1995年3月北海道大学大学院工学研究科電気工学専攻修士課程修了
1998年3月北海道大学大学院工学研究科電子情報工学専攻博士後期課程修了
1998年3月北海道大学 博士(工学) 取得
職歴
1995年4月日本学術振興会特別研究員 (DC1)
1998年4月株式会社 富士通研究所 光半導体研究部 研究員
2002年9月フィリップス大学マールブルグ (ドイツ) 材料科学研究センター 客員研究員
2004年4月北海道大学 大学院情報科学研究科 助手/助教
2007年5月北海道大学 量子集積エレクトロニクス研究センター 准教授
受賞歴
2004年第34回結晶成長国内会議講演奨励賞 (日本結晶成長学会)

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