ナノ製造技術の探索と展開
研究者紹介
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赤松 謙祐 斎藤 毅 内藤 泰久 平塚 祐一 前田 優
松井 淳 丸尾 昭二 三村 秀和 柳下 崇
高規則性陽極酸化ポーラスアルミナによる膜乳化
柳下 崇
写真
1977年3月、神奈川県生まれ
所属
  首都大学東京大学院
 都市環境科学研究科 助教
研究専門分野
 材料化学
学歴
1999年3月東京都立大学工学部工業化学科卒業
2001年3月東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻修士課程修了
2004年3月 東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻博士課程修了
2004年3月東京都立大学 博士(工学)取得
職歴
2004年4月財団法人神奈川科学技術アカデミー 常勤研究員
受賞歴
2003年日本表面科学会 ステューデント奨励賞
2003年電気化学会第70回大会 ポスター賞
2006年応用物理学会 第21回(2006年秋季)講演奨励賞

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