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公募情報

「次世代の電子顕微鏡要素技術の開発」の公募について

2006年5月31日公募締め切りました。
プロジェクト名: 次世代の電子顕微鏡要素技術の開発
公募期間: 2006年4月28日〜2006年5月31日
公募課題: (1) 高輝度電子ビームの実現に関する要素技術の開発
(2) スペクトロスコピーの高度化に関する要素技術の開発
(3) 画像検出・記録系の高度化に関する要素技術の開発
(4) 動的な3次元観察・その場観察の実現に関する要素技術の開発

1.目的
電子顕微鏡を利用した様々な研究開発分野の強いニーズと、電子顕微鏡技術開発における欧米との競争が激しい技術領域において、シーズ技術を生かして、5年から10年後を見据えた次世代の電子顕微鏡開発に対応するための要素技術を開発し、その実用化に向けて性能の高度化を図ることを目指します。

2.研究開発領域等
本事業では、以下の開発領域における要素技術について、3年以内の期間の研究開発課題を募集いたします。
1 高輝度電子ビームの実現に関する要素技術の開発
 微細化が進む半導体デバイスや機能材料の高度化には、原子スケールでの詳細な構造解析や元素分析とともに、構造内の電磁界分布評価が必要になる。原子スケールでの詳細な構造観察・分析には電子顕微鏡の基本性能の向上が不可欠であり、また構造内の電磁界分布の詳細な計測には電子線ホログラフィー技術の高度化が必要になる。これらの高度な観察・計測の実現のために、高輝度と単色性を兼ね備えた電子ビームを可能とする技術の開発を行う。
2 スペクトロスコピーの高度化に関する要素技術の開発
 電子線照射で発生したX線や散乱・回折された電子線を分析することで、対象とした試料の電子状態、結合状態などに関する情報を得るスペクトロスコピーは、電子顕微鏡の重要な機能である。材料やデバイスの機能・特性の詳細な解明やその向上に対応可能な分析機能の高度化を可能とする要素技術の開発を行う。
3 画像検出・記録系の高度化に関する要素技術の開発
 画像検出・記録系は電子顕微鏡に不可欠な要素であるが、観察性能向上とデータ処理の高度化には、広域を高倍率に構造解析可能とする検出器の大面積・高画素数化が必要であり、またリアルタイム処理や高速現象の観測を可能とすることが必要である。電子顕微鏡の機能・性能を向上するこれらの画像検出・記録系の開発を行う。
4 動的な3次元観察・その場観察の実現に関する要素技術の開発
 機能材料や生体材料観察の分野において、3次元構造解析や極低温観察、および多様な試料環境(加熱・冷却、応力付与、ガス雰囲気下など)の状態の静的・動的な観察が必要である。これらの観測・分析を原子・分子スケールの精度を保ちながら可能とするため、高度な機能を持つ試料ホルダーとその制御システムの開発とともに、高精度3次元立体像の再生など多様な情報を解析するソフトウェアの開発を行う。

3.公募の対象
産学官の連携を推進するための体制として「産学官連携チーム」を編成していただきます。
「産学官連携型」の趣旨のもと、少なくとも大学あるいは独立行政法人等の研究機関(学あるいは官)と、企業等の機関(産)による「産学官連携チーム」が対象となります。

4.スケジュール
平成18年
 ・4月28日(金) 公募開始
 ・5月31日(水) 公募締切
 ・〜7月上旬(予定) 審査
 ・〜7月下旬(予定) 委託契約、事業開始
制度に関する問い合わせ
 文部科学省研究振興局基礎基盤研究課ナノテクノロジー・材料開発推進室 公募担当
  〒100-8959 東京都千代田区丸の内2−5−1
  電話:03−5253−4111(代表) 03−6734−4100(直通)
  E-mail:

<書類作成・提出に関する問い合わせ>
 独立行政法人 科学技術振興機構 キーテクノロジー研究開発業務室
  〒102-8666 東京都千代田区四番町5番地3 サイエンスプラザ3階
  TEL:03−5214−7990(直通)
  E-mail: