JSTトップ > 戦略目標「プロセスインテグレーションによる次世代ナノシステムの創製」3研究領域第3回合同公開シンポジウム

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開催概要

タイトル

戦略目標「プロセスインテグレーションによる次世代ナノシステムの創製」
3研究領域第3回合同公開シンポジウム

協賛

公益社団法人 応用物理学会、公益社団法人 日本化学会、公益社団法人 有機合成化学協会

日時

平成27年9月29日(火)10:30-18:05

場所

コクヨホール 東京ショールーム2階
〒 108-8710 東京都港区港南1丁目8番35号
TEL:03-3450-3712(コクヨショールームサービス(株))

参加費

無料(定員:200名)

交流会

18:05 コクヨホール内
会費 4,000円/人

参加登録方法

参加登録ページよりお申込みください。

主催

国立研究開発法人 科学技術振興機構

シンポジウムに関するお問い合わせ

科学技術振興機構
戦略研究推進部 グリーンイノベーショングループ
TEL : 03-3512-3531
E-mail : nanosympo1509@jst.go.jp

領域HP

  • CREST プロセスインテグレーションによる機能発現ナノシステムの創製
  • CREST プロセスインテグレーション向けた高機能ナノ構造体の創出
  • さきがけ ナノシステムと機能創発