「光・酸協働分解性」を有するポリマー材料
～光加工性と光安定性のトレードオフを解消したポリマー～
正井 宏（東京大学 大学院工学研究科）
発明の背景とポイント
・光加工性と光安定性をスイッチングできる光分解性ポリマー材料。
（従来の「光分解性ポリマー」）：光分解による微細加工が可能 ⇔ 長期（環境）光安定性に課題
光と酸の２刺激で協働的に分解可能なポリマー材料の創製
光と酸の共存時のみ分解 ⇒ 酸の有無で光分解性切替
光の下で利用する材料に光分解性／光加工性を付与
発明の概要
・ジピレニルケイ素骨格を導入した高分子化合物
種々のポリマーに協働性分解性を付与可能
✓種々の導入形態可能
✓種々の高分子に適用可
ｅｘ．ＰＡ、ＰＣ、ＰＶＡ、ＰＭＭＡ、ｅｔｃ
✓種々の官能基導入可
ｅｘ．各種フェノール誘導体より導入可
［合成例：架橋点にジピレニルケイ素を導入したゲル］
酸共存下でのＵＶ照射実験
酸の有無による光反応性
| Condition | GC yield |
| HCl&UV | >99% |
| UV | N.D. |
| HCl | N.D. |
(UV : 365 nm, 0.2 W/cm2)
HCl 1.8 M (DMF:H2O =10:2)
酸共存下で光照射により、ゲルが協働分解されゾルに変換された。
想定される用途
光スイッチ材料
各種ポリマー材料に導入
⇔ 酸と光共存時の分解による機能切替
光加工用材料
光造形ポリマーorサポート材に導入
⇔ 酸／光共存下で除去・微細加工
光剥離性接着材料
接着材組成物に導入
⇔ 酸と光共存時に剥離可能
ライセンス可能な特許
発明の名称：高分子化合物、反応性化合物、高分子架橋剤、高分子変性剤、架橋部形成方法、高分子修飾方法、高分子化合物の重合方法および分解方法
国際公開番号：WO2023/145203
