nanotech2026に出展します。
JST保有のナノ材料・ナノデバイスに関する厳選技術を紹介します。
知的財産マネジメント推進部は、ライセンスによる技術移転を見据えて2026年1月28日（水）～30日（金）に東京ビッグサイトで開催される「第25回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議（nanotech2026）」に出展します。JSTが保有する特許等の中から、ナノ材料・ナノデバイスに関連する厳選した技術を紹介します。
今回は、SAHP法：｢高速・精密・多様・大面積｣すべてを兼ね備えた合成技術、ACナノポア法による微生物センサー、ナノ流路開閉可能なバルブを設置したナノ流体デバイス、並列流路を使った『エマルション（微小液滴）』生成技術、ナノサイズの液晶高分子ミセル（内包物の放出制御）、有機-無機ハイブリッドによる光電流増幅と高感度光検出の技術に関する展示を行います。
なお、展示会開催と並行して、オンライン展示（出展者ページの掲載）も行います。併せてご覧ください。
皆様のお役に立つ技術があれば幸いです。皆様とお目にかかる機会を心より楽しみにしております。
■ nanotech2026出展概要
- 【会期】
- 2026年1月28日（水）～30日（金）
- 【会場】
- 東京ビッグサイト 西ホール（JSTのブースは西１ホール、小間番号は1W-C16です。）
- 【公式WEBサイト】
- https://www.nanotechexpo.jp/
- 【ビジネスマッチングシステム】
- nanotech2026では事前商談アポイントのためのマッチングシステム(特許第5843841号)が用いられております。
本システムは、事前に出展者および来場者が基本情報を登録し、目的に合った交渉相手を検索の上、面談を申し込むことができるシステムです。
■ 出展技術のご紹介
| 整理番号 | 技術の名称 | 代表発明者・所属 | 技術の概要 | 技術資料 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 原子を操り原子で創る究極の表面 ～SAHP法：｢高速・精密・多様・大面積｣すべてを兼ね備えた合成技術～ | 平田 祐樹 （東京科学大学） |
本技術はCVD法を基軸とする従来型合成技術からのパラダイムシフト：SAHPの革命とも言える原子で操り原子で創る究極の表面創成技術を確立しました。 SAHP（Sputtering-Annealing Hybrid Process）はスパッタリングとアニーリングを重畳適用する技法です。 基板と結晶の格子ミスマッチ低減の静的制御＋スパッタ粒子の分解挙動・表面拡散の動的制御を併せ持ちます。 優位性：超高速性、高精度制御、材料拡張性、大面積合成 |
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| 2 | ACナノポア法による微生物センサー （同時多種で同定＆定量モバイル・リアルタイム） | 山本 貴富喜 （東京科学大学） |
微生物の検出は分析試験場で専門家の手により数日から２週間程度の時間をかけて行われていた。其れを現場で簡単に、正確に検出できるよう、ナノスケールの孔を粒子が通過する際の電気的特性から粒子を推定するナノポア法の原理を発展させ独自のAI駆動ACナノポア法による微生物検知器を開発した。この検知器を使用することでリアルタイムに検査データを活用することが可能となり、衛生環境の現場の質的向上に大きく寄与できる。 | |
| 3 | ナノ流路開閉可能なバルブを設置したナノ流体デバイス (超微量極限分析への展開) | 嘉副 裕 （慶應義塾大学） |
マイクロ流体ナノ流体とは、微小な流路内で流体を精密に制御し、分析・反応・操作に活用する技術で、その流路の開閉はポリジメチルシロキサン（PDMS）製が主流であるが耐薬品性、光学特性に難があった。これを解消するためガラス製の流体バルブを開発、超微量のサンプルで高度で複雑な分析を可能にした。これにより創薬、化粧品材料、化学材料等の幅広い材料開発に寄与する。 | |
| 4 | 均一な液滴を速く、大量に！ 並列流路を使った最新の『エマルション（微小液滴）』生成技術 | 西迫 貴志 （東京科学大学） |
この「速く、大量に」エマルションを生成できる技術は、多数の液滴生成用マイクロ流路を容易に形成することができ、且つマイクロ流路部分のメンテナンスがし易い、従来の多数流路並列化装置の課題を解決する、シンプルな構造で流路を並列化した装置です。 これまで難しかった2相液滴の量産も容易にできるようになりました。 この技術は、医薬品製造プロセスや生活消費財、塗料、その他高分子微粒子等の生産技術への応用が可能です。 |
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| 5 | ナノサイズの液晶高分子ミセル ～体温等で化合物放出のON–OFF制御可能～ | 宮田 隆志 （関西大学） |
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| 6 | 有機-無機ハイブリッドによる光電流増幅と高感度光検出 ～見えない光の情報の検出と操作を可能とする物質系の創製と光エレクトロニクスへの応用～ | 石井 あゆみ （早稲田大学） |
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※ご関心がある方は是非下記お問い合わせ先までご連絡ください。
〒102-8666 東京都千代田区四番町５－３ サイエンスプラザ
科学技術振興機構
知的財産マネジメント推進部 知財集約・活用グループ
TEL：03-5214-8486 FAX：03-5214-8417 E-mail:
※お問い合わせの内容によっては、回答に時間を要する場合があります。
