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４−４ 高知県
◆（参考３）フェーズI における研究項目と実施体制 |
| 研究項目 |
実施機関 |
グループリーダ |
ＪＳＴ負担研究費
（千円) |
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１．新材料による高性能ＴＦＴ技術の開発
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大阪大学、名古屋大学、
高知工科大学、カシオ計算機（株）、
高知カシオ（株）、（株）土佐電子、
ニッポン高度紙工業（株）、
（財）高知県産業振興センター |
平尾 孝
（高知工科大学 総合研究所 教授） |
２０７，９６９ |
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２．次世代透明導電膜技術の開発
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高知工科大学、
（財）高知県産業振興センター |
山本 哲也
（高知工科大学 総合研究所 教授） |
１７１，２８９ |
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３．保護膜低温形成技術の開発
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誠南工業（株）、
（財）高知県産業振興センター |
平尾 孝
（高知工科大学 総合研究所 教授） |
７，６１８ |
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４．白色光源技術の開発
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京都大学、高知大学、高知女子大学、
高知県工業技術センター、
（財）高知県産業振興センター |
４−１山本 哲也
（高知工科大学 総合研究所 教授）
４−２西村 一仁
（高知県工業技術センター 主任研究員） |
１５８，２３２ |
| 合 計 |
５４５，１０８ |
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