Japan Science and Technology Agency Fair JSTフェア2017-科学技術による未来の産業創造展-

JST 国立研究開発法人 科学技術振興機構

防汚性を有する硬度の高いナノインプリント用UV硬化型エポキシ組成物

オーテックス

9 産業と技術革新の基盤をつくろう

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小間番号 展示 J12-17

出展概要

東京理科大学との共同開発により、防汚機能を有しかつ従来より硬度の高いナノインプリント用UV硬化型エポキシ樹脂組成物の開発に成功しました。この組成物をナノインプリント手法で転写することで、スマートフォン、タブレット等のディスプレイ向けに、反射防止構造体(モスアイ構造)に防汚機能も付与した保護フイルムを作成することができます。さらに、この組成物は8H以上の鉛筆硬度を有するので、硬度を必要とするナノインプリント転写材料、レプリカモールドや防汚機能を有するハードコーティング剤にも応用可能です。

JST支援プログラム名称・期間

A-STEP(研究成果最適展開支援プログラム)
ハイリスク挑戦タイプ
開発期間:平成25年度~平成28年度
課題名:反射防止構造体(モスアイ構造)に防汚機能を付与したタッチパネル用フィルム及びフィルム材料の開発

共同研究者情報

  • 東京理科大学 基礎工学部 電子応用工学科 教授 谷口 淳

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