Japan Science and Technology Agency Fair JSTフェア2016-科学技術による未来の産業創造展-

JST 国立研究開発法人 科学技術振興機構

GaN/Siベース半導体の確立とその社会実装

名古屋工業大学 極微デバイス次世代材料研究センター 機能工学専攻 教授 江川孝志

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出展分野 グリーンイノベーション
小間番号 展示 E1-2

出展概要

ハイブリッド自動車やエアコン等家電製品の更なる省エネ化を低コストで実現することが期待されており、次世代半導体GaN/Siの量産化に向け研究開発を進めている。開発目標は、ウエハ口径:6インチ径以上および同量産型MOCVD装置の開発(6インチ径以上×複数枚)、デバイス化に必要なダメージフリープロセスの構築、ノーマリオフデバイスの開発および小型・省エネパワー回路の開発である。これらの研究から得られたGaN/Si ウエハおよびGaN/Siデバイスウエハ、ノーマリオフ型GaN/Siデバイス(面実装タイプ)を使用した小型DC-DCコンバータの試作品を展示する。

JST支援プログラム名称・期間

研究成果展開事業スーパークラスタープログラム
H25~H29

ブース位置詳細


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