| チームリーダー ： | 三村 秀和【東京大学 大学院工学系研究科 准教授】 |
| サブリーダー ： | 橋爪 寛和【夏目光学（株） テクノロジーセンター 所長】 |
| 中核機関 ： | 東京大学 |
| 参画機関 ： | 夏目光学（株） |
- Ⅰ．開発の概要
- 高輝度ラボベース軟X線光源を最大限活用するためには、発散するX線を集めることができる大開口・回転体Ｘ線ミラーが有効である。しかし、理想的なX線ミラーには、シングルナノメートルの極限の精度が必要であるため実現されていない。本課題では、3次元ナノ精度加工、常温電鋳法、3次元形状評価法、追加成膜形状修正法を開発することにより、理想的な性能を有する回転体軟X線集光ミラーを世界にさきがけて実現するとともに、将来の軟X線顕微鏡開発を視野に入れ、X線ミラーの設計・作製・評価を行う。
- Ⅱ．中間評価における評価項目
- （１）3次元ナノ精度加工技術の確立
- EEM（Elastic Emission Machining）加工装置を製作し、円柱形状の形状修正加工に成功した。加工性能を評価した結果、直径5～10 mmφ、長さ40 mmの回転体形状において、形状精度は100 nm(P-V)、表面粗さは0.14 nm (RMS)を達成していることを確認した。
- （２）3次元ナノ精度転写技術の確立
- 常温電鋳装置を作製し、高精度転写に不可欠な常温下での電析において応力フリーの条件を見出し、マンドレル（マスター）の高精度形状転写が可能であることを確認した。転写性能は、5～10 mmφ、長さ40 mmの回転体形状において、転写精度として100 nm(P-V)レベル（真円度評価）、表面粗さとして0.3 nm(RMS)（円錐台形状）を確認した。また、軟X線集光用回転楕円ミラーを試作し、形状精度として100 nm(P-V)を確認した。
- Ⅲ．評 価
- X線集光用ミラーに関しては、硬Ｘ線用にはK-B（Kirkpatrick-Baez）ミラーが開発されているが、実験室レベルで使える軟Ｘ線用として提案されている各種ミラーについては、精度に問題があり実用に到っていない。本課題は、軟Ｘ線集光用回転楕円体ミラーの加工精度を飛躍的に向上させることを目指し、マンドレル加工技術、電鋳法による転写技術、内面形状修正技術を開発するものである。マンドレル加工と転写技術については、当初の中間目標値を十分達成しており、開発は順調に進んでいる。今後は、軟X線集光性能の早急な評価を行い、最終目標へ向けて技術開発を着実に推進すべきである。[A]