最新情報

JSTトピックス

「産学共創の場」を開催−産学共創基礎基盤研究プログラム「次世代高性能磁石」
2011年12月11日 JST東京本部別館

産学共創基礎基盤研究プログラムでは「産学共創の場」を開催しました。

「産学共創の場」とは、産業界と学界が一堂に会し、技術テーマ(*)の解決に向けて意見交換する場です。このような場を設け、産学が一体となって技術テーマの解決に取り組むことは、本プログラムの大きな特長の一つです。

今回は、本プログラムの技術テーマ「次世代高性能磁石(**)」において、「学」による研究計画に「産」の要望をどのように取り入れるかについて話し合いました。

「産」として技術テーマ提案機関の企業・業界団体から約15名、「学」として大学・公的研究機関の研究者から約20名、総勢約40名の参加者が、技術テーマ運営責任者である福永プログラムオフィサーのオーガナイズの下、活発に議論しました。「学」の研究代表者は、今回の産学による議論の内容も入れこんで研究を進めていきます。

今後も、産学共創基礎基盤研究プログラムでは、新しい取り組みである「産学共創の場」を多様なかたちで運営していきます。

*)技術テーマ:産業界共通の技術的課題で、解決のためには大学・公的研究機関などの基礎的な研究が必要なもの。
**)「次世代高性能磁石」:「革新的次世代高性能磁石創製の指針構築」の略称

電気自動車や省エネ家電で永久磁石の需要が伸びる一方、希土類資源や、生産コストの面の問題が顕在化している状況です。本テーマは、ネオジム磁石を超える次世代高性能磁石の開発と言う産業界のニーズにより設定されました。