本新技術は、樹脂基板上に堆積した金属薄膜を、加速エネルギーの高い酸素イオンを打ち込み反応させる高速酸化法により速やかに酸化し光学薄膜を形成するものである。
従来、基板上に光学薄膜を形成させるためには基板を加熱しながら蒸着させる真空蒸着法が主な方法であった。耐熱性の低い樹脂基板では十分に加熱ができないため樹脂基板上に形成される薄膜は隙間の多い柱状構造となり、水分の浸透などによって剥離や微小なひび割れが生じる問題があった。
本新技術は、樹脂基板上にマグネトロンスパッタ法でチタンまたはケイ素の金属薄膜を堆積した後、加速させた酸素イオンを金属薄膜と反応させ二酸化チタンまたは二酸化ケイ素を形成し、これらの酸化物薄膜を交互に積層させることで、光の透過性などの光学特性に優れた光学薄膜を低温で形成させる技術に関するものである。
本新技術には次のような特徴がある。
従って、次のような用途が期待される。
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This page updated on December 14, 2001
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