【用語解説】

・スパッタリング：
	真空中において、電解で加速された正イオンなどの高エネルギー粒子を膜形成のための供給材料の固体表面にあて、はじき出される原子、あるいは、分子を被着材上に析出させ膜を形成する方法。この方法で形成したものを薄膜という。正イオンとしてはアルゴンイオンが多く利用されている。
・フォトリソグラフィー法：
	基板上へのフォトレジスト塗布に始まり、露光、現像、エッチングを行い、使用済みのフォトレジストを除去する一連のプロセス。
・無電解めっき：
	金属、または、非金属の表面に、電流を流さず金属を還元剤で還元するか、または、金属の置換により析出させるめっき処理、および、析出した金属。化学めっきともいう。代表的なものとして、無電解銅めっき、無電解ニッケルめっき、無電解金めっきなどがある。金属の置換によるものを置換めっきということがある。