兵庫県立大学の木下が提案した次世代のリソグラフィ技術で、波長を13.5nmとし、光学系、マスクに多層膜を形成し、反射光学系とした露光方式。32nmノードのLSI製造から利用される。

　屈折率の異なる極薄膜を交互に積層した人工格子膜である。13.5nmの波長域ではMo/Siが用いられ、厚さ3nm のMo膜と厚さ4nm Si膜とを40ペア積層すると70%近い反射率が得られる。

　マスク欠陥には強度欠陥と位相欠陥がある。強度欠陥は検出した光の強度変化を伴うものであり、位相欠陥は光の位相変化となる。

　２枚の凹面と凸面の球面鏡を軸上に構成した光学系を言う。最適な曲率とミラー間隔を選ぶことにより、収差のない領域が得られる。光の集光やX線顕微鏡光学系として用いられる。

　軟X線領域での撮像管で、軟X線で作られた像面をCsI膜に生成すると光電子が発生する。この光電子を電磁レンズで集光、拡大し、蛍光板で可視光に変換して、CCDカメラで観察する。電磁レンズの調整で10倍から200倍まで連続的に拡大率を変更できる。