機構報第175号
開発を終了した課題の評価
課 題 名 | 「高速酸化法による光学薄膜の低温形成技術」 | ||||||
研 究 者 | 金沢大学 名誉教授 畑 朋延 | ||||||
所 有 者 | 畑 朋延 CBCイングス株式会社 芝浦メカトロニクス株式会社 | ||||||
委託企業 | CBCイングス株式会社 | ||||||
開 発 費 | 231,985,804円 | ||||||
開発期間 | 平成14年2月~平成16年12月 | ||||||
評 価 |
本新技術は、携帯機器のディスプレイに用いられる反射防止用の光学薄膜を、熱に弱い樹脂基板にスパッタリング法で成膜できる技術である。 本開発では、マグネトロン・スパッタ法で金属の極薄膜を堆積した後、引き続き酸素イオンを打ち込むことにより、低温で酸化物薄膜を高速堆積する技術(MOI:Metal deposition and Oxygen-ion Implantation)を基に、各種光学薄膜形成用の大型装置を開発した。 本装置では、金属の極薄膜を堆積する金属エリア(スパッタ源)と極金属薄膜に酸素イオンを打ち込む酸化エリア(逆スパッタ源)とに分かれており、それぞれ独立して制御できるようにした。これにより、NbとSiの緻密な金属酸化物薄膜による4層の反射防止膜が高い成膜レートで形成できた。 本新技術により、低温・高速レートで耐環境性に優れた反射防止膜が形成できるため、携帯機器用ディスプレイの反射防止膜および各種光学フィルターや光通信用ファイバー端面への光学薄膜としての利用が期待される。 | ||||||
評 価 者 |
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評 価 日 | 平成17年3月18日 |