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科学技術振興機構報 第1083号

平成27年2月19日

東京都千代田区四番町5番地3
科学技術振興機構(JST)

「知的財産特別貢献賞」第2回受賞者の決定

JST(理事長 中村 道治)は、「知的財産特別貢献賞」第2回受賞者を以下の通り決定しました。

【受賞者】 細野 秀雄 東京工業大学
フロンティア研究機構 教授・同学元素戦略研究センター長
【受賞内容】 高精細ディスプレイに適した酸化物半導体

本賞は、大学や公的研究機関などの、真に独創的な研究成果に基づく知的財産の創造と活用を通して、日本の科学技術の発展に寄与し経済社会上大きな成果をあげた特に優れた研究者に対し、その業績を称え表彰するものとして、JSTが平成23年度に創設し、このたび第2回受賞者の選考を行い、決定しました。表彰式は平成27年2月25日に行います。受賞内容については、別紙をご参照ください。

<添付資料>

別紙: 知的財産特別貢献賞(第2回)受賞内容について

<お問い合わせ先>

科学技術振興機構 知的財産戦略センター
〒102-0081 東京都千代田区四番町5−3
奈良坂 智(ナラサカ サトシ)、香浦 大樹(カウラ タイジュ)
Tel:03-5214-8477 Fax:03-5214-7626
E-mail: