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戦略目標 新原理・新機能・新構造デバイス実現のための材料開拓とナノプロセス開発　　（136kb）

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研究領域 研究総括 次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究 渡辺　久恒 （（株）EUVL基盤開発センター　代表取締役社長） 　この研究領域は、半導体ロードマップ戦略に基づく技術進化の飽和を超越することを目的として、微細化パラダイムのみでは実現できない機能・性能を持つ、 革新的且つ実用化可能なエレクトロニクスデバイスを創製するための材料・構造の開発及びプロセス開発を行う研究を対象とします。 　具体的には、新しい原理により消費電力の増大、製造コストの巨額化といった実用上の問題を解決するための高集積情報処理デバイス、有機物を含め異種材料 や技術の融合により新機能・高性能を発揮するデバイス、及びそれらを可能にするプロセス研究、また従来にない斬新なアプリケーションを切り拓く研究等が含 まれます。 　本研究領域では、材料・プロセスの特性・機構解明に留まらず、実用技術に発展することが十分見込まれる研究を推進します。 （所属・役職は、平成24年3月時点のものです。）   □秋永　広幸　（(独)産業技術総合研究所　ナノデバイスセンター　センター長） 「機能性酸化物を用いたナノ界面相転移デバイス開発」　　（700kb） □尾辻　泰一　（東北大学電気通信研究所　教授） 「グラフェン・オン・シリコン材料・デバイス技術の開発」　　（1,357kb） □佐々木　孝友　（大阪大学光科学センター　特任教授） 「真空紫外レーザー光発生用非線形光学結晶の開発」　　（2,082kb） □菅原　聡　（東京工業大学像情報工学研究所　准教授） 「ハーフメタル強磁性体を用いたスピン機能MOSFETの開発」　　（652kb） □田川　精一　（大阪大学　産業科学研究所　特任教授） 「極微細加工用レジスト研究とプロセスシミュレーターの開発」　　（596kb） □遠藤　哲郎　（東北大学　学際科学国際高等研究センター　教授） 「縦型ボディーチャネルＭＯＳＦＥＴとその集積プロセスの開発」　　（452kb） □木下　博雄　（兵庫県立大学　高度産業科学技術研究所　教授） 「コヒーレントＥＵＶ光を用いた極微パタン構造計測技術の開発」　　（1,377kb） □鳥海　明　（東京大学大学院工学系研究科　教授） 「Ge High−k CMOSに向けた固相界面の理解と制御技術の開発」　　（352kb） □前川　禎通　（（独）日本原子力研究開発機構　先端基礎研究センター　センター長） 「数値シミュレーションによる新材料・新機能の開発」　　（296kb） □松井　真二　（兵庫県立大学高度産業科学技術研究所　教授） 「超高速ナノインプリントリソグラフィ技術のプロセス科学と制御技術の開発」　　（908kb） □大毛利　健治　（筑波大学大学院数理物質系　准教授） 「ナノデバイスのピコ秒物理の解析による揺らぎ最小化設計指針の開発」　　（1,077kb） □岡田　晋　（筑波大学大学院数理物質科学研究科　准教授） 「計算科学によるグラファイト系材料の基礎物性解明とそのデバイス応用における設計指針の開発」　　（900kb） □神谷　庄司　（名古屋工業大学大学院工学研究科　教授） 「高密度多層配線・三次元積層構造における局所的機械強度の計測手法の開発」　　（344kb） □木村　崇　（九州大学稲盛フロンティア研究センター　教授） 「電荷レス・スピン流の三次元注入技術を用いた超高速スピンデバイスの開発」　　（840kb） □長谷川　剛　（（独）物質・材料研究機構　国際ナノアーキテクトニクス研究拠点　主任研究者） 「３端子型原子移動不揮発性デバイス「アトムトランジスター」の開発」　　（308kb） □森　伸也　（大阪大学大学院工学研究科　准教授） 「原子論から始まる統合シミュレータの開発」　　（924kb） □湯浅　新治　（（独）産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター　センター長） 「革新的プロセスによる金属／機能性酸化物複合デバイスの開発」　　（676kb）

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