１．研究領域の概要

　本研究領域は、フォトリソグラフィ等のトップダウンプロセスと自己組織化に代表されるボトムアッププロセスの高度化と統合化を進めることによって、革新的な機能を発現する次世代ナノシステムの創製を目指した。具体的には、トップダウンプロセスによって作られた微細な電子回路、MEMS・NEMS等のナノ構造デバイスと、ボトムアッププロセスによって生成されたバイオ・有機材料、自己組織化材料等との融合を図ることにより新たな機能を発現させる研究、または機能を有するボトムアップナノ構造体を工学的に応用可能なシステムとして構築する研究を対象とし、従来にない機能、性能をもつセンサ、アクチュエータ、バイオチップ、電子・光デバイス、エネルギーデバイス等の基盤構築を目指した。さらに、これらを集積・最適化した次世代ナノシステムの構築まで念頭に置いて研究を推進した。

２．CREST研究領域事後評価

２－１．評価報告書

「プロセスインテグレーションによる機能発現ナノシステムの創製」研究領域事後評価報告書

２－２．評価委員

◎家 泰弘　　独立行政法人日本学術振興会　理事
　新井 史人　名古屋大学未来社会創造機構　教授／名古屋大学大学院工学研究科　教授
　川合 眞紀　東京大学大学院新領域創成科学研究科　教授／国立研究開発法人理化学研究所　理事長特別補佐
　後藤 博史　東芝機械株式会社ナノ加工システム事業部　副事業部長
　庄子 習一　早稲田大学理工学術院　教授
◎は委員長

２－３．研究領域評価用資料

「プロセスインテグレーションによる機能発現ナノシステムの創製」研究領域事後評価用資料