XFELの装置は現在世界に2箇所しかありませんが、各国で建設が計画されています。しかし、いずれもkmオーダーのサイズであり巨大な施設です。そこで、施設が大型化する要因である「加速器」と「アンジュレーター」を、それぞれ「レーザー加速」と「着磁型アンジュレーター」にすることで、施設サイズを現状の１／１００以下にできる技術を確立します。

パワーレーザーには連続的にレーザーを発振させる連続光と、短時間の間だけ発振するパルス光の２種類があります。連続光のレーザーは溶接や加工など様々な分野で適用されていますがパルス光のレーザーは装置が大型であり、またレーザー光の伝送が難しいなどの問題から普及が進んでいません。そこで、マイクロチップレーザーやセラミックレーザー技術、半導体レーザー（LD）技術等により超小型で、いつでもどこで使えるレーザーを開発します。