本募集は終了しました。


ERATO　下田ナノ液体プロセスプロジェクト　研究員・技術員募集のご案内


概要：
　当プロジェクトで提案している「ナノ液体プロセス」研究では、液体の新しい能力を利用して、ナノサイズの電子デバイスを低エネルギー・省資源で製造するための基礎研究を行います。具体的には、シリコン系あるいはセラミック系材料を用いて、ナノサイズのMOS-FETや高密度メモリを直接形成(プリンティング)する手法を創出する研究開発を行っています。トランジスタ等の素子の研究が進展し、現在は基本的な回路を作成して、実際の性能を検証する段階に入っております。プロジェクトでは、今後は集積回路や高密度メモリ等の電子デバイスの製造方法を根本から変えうる技術の確立を目指します。
　（詳しくは、http://www.jst.go.jp/pr/info/info346/shiryou1-1.htmlをご覧下さい。）


勤務地：
石川県能美市　石川サイエンスパーク内　
（独）科学技術振興機構　下田ナノ液体プロセスプロジェクト


職種：
研究員、技術員


研究分野：半導体デバイス、回路設計と評価
(1) 液体プロセスを用いた、微細MOS-FET、メモリデバイスの研究と開発。
(2) 上記デバイスを用いた回路設計、試作評価に関する研究。


勤務/雇用形態：
(1) 常勤（年俸制）。科学技術振興機構の規定による（各種保険、交通費支給等）
(2) 非常勤（相談に応ずる）


任期：
1年契約。以降、実績に応じて1年毎に契約更新可。最長2012年3月。


募集人員：
若干名


応募資格：
研究員：博士学位取得者若しくは取得見込であること、又はこれらと同等の能力を有すると認められること。上記いずれかの研究分野における研究の素養を持つこと。
技術員：大学卒または同等以上の能力を有し、上記いずれかの研究分野に関連する技術を有すること。


募集期間：
〜2010年6月30日。※　随時選考し、適任者があり次第締め切ります。


着任（採用）時期：
2010年1月以降。適任者の決定時期によっては、変更もあり得る。


応募書類：（応募書類は返却しませんので、ご留意下さい。）
１．履歴書・身上書
２．業績リスト（技術員については不要）
３．採用後の抱負あるいは自薦書
４．推薦状2通及び推薦者2名の連絡先


選考方法：
書類審査と面接による。


採否の決定：
メール等により個別に連絡。


書類送付先：
〒923-1211　石川県能美市旭台2-5-3　いしかわフロンティアラボ
独立行政法人科学技術振興機構　下田ナノ液体プロセスプロジェクト事務所
技術参事　林　賢次郎
TEL：0761-51-5800、FAX：0761-51-5889
E-mail：khayashishimoda.jst.go.jp

（※メールの際は画像部分を"@"にご変更願います。）




上へ